Hochtemperatur-Tauchbeschichtungsanlage bis 1000 °C

Hochtemperatur-Tauchbeschichtungsanlage bis 1000 °C

SPEZIFIKATION

Die Hochtemperatur-Tauchbeschichtungsanlage TOB-PTL-HT ist für die kontrollierte Dünnschichtbildung unter erhöhten thermischen Bedingungen konzipiert. Im Betrieb wird das Probensubstrat unter dem Ziehdraht fixiert, in flüssiges Beschichtungsmaterial eingetaucht und anschließend zur schnellen thermischen Aushärtung in einen Rohrofen gezogen. Das integrierte Heizsystem ermöglicht eine Tauchbeschichtungsumgebung bis zu 1000 °C und unterstützt damit fortschrittliche Schichtwachstumsprozesse, die mit herkömmlichen Niedertemperatur-Tauchbeschichtungsanlagen nicht realisierbar sind.

Produktübersicht

Die Hochtemperatur-Tauchbeschichtungsanlage TOB-PTL-HT ist für die kontrollierte Dünnschichtbildung unter erhöhten thermischen Bedingungen ausgelegt.

Während des Betriebs wird das Probensubstrat unter dem Zugdraht fixiert, in flüssiges Filmmaterial eingetaucht und anschließend zur schnellen thermischen Aushärtung in einen Rohrofen gezogen. Das integrierte Heizsystem ermöglicht eine Tauchbeschichtungsumgebung bis zu 1000 °C und unterstützt so fortschrittliche Filmwachstumsprozesse, die mit herkömmlichen Niedertemperatur-Tauchbeschichtungsanlagen nicht realisierbar sind.

Der Standard-Zugdraht ist für den Dauerbetrieb bis 800 °C ausgelegt.

Anwendungen, die einen Betrieb bei 800 °C bis 1000 °C erfordern, können durch kundenspezifische Hochtemperatur-Zugdrahtkonfigurationen oder vom Benutzer bereitgestellte Komponenten unterstützt werden.

Dieses System eignet sich besonders für:

● Batteriematerialbeschichtungen

● Keramische Dünnschichten

● Kristalline Dünnschichten

● Funktionelle Nanofilme

● Neue Hochtemperatur-Filmwachstumsverfahren

Die Geräte werden in Universitätslaboren, Forschungsinstituten, Batterieherstellern und Forschungs- und Entwicklungszentren für neue Energien weit verbreitet eingesetzt, wo eine zuverlässige Steuerung der thermischen Beschichtung und reproduzierbare Prozessparameter unerlässlich sind.

Technische Spezifikationen

Parameter der Tauchbeschichtungsanlage

Ofenparameter

Anmerkungen:

1. Die Standard-Netzadapter Die Spezifikationen lauten:
Eingang: Wechselstrom 100–240 V, 50/60 Hz
Ausgang: 24 V Gleichstrom, 3,75 A
Die tatsächliche Stromversorgung des Geräts richtet sich nach den Angaben auf dem Typenschild an der Rückseite des Geräts.

2. Ein Hochtemperaturofen, der mit einphasigem Wechselstrom (110 V, 50/60 Hz) betrieben wird, ist auf Anfrage erhältlich.

Technische Merkmale

Fähigkeit zur Hochtemperatur-Wärmebeschichtung

Im Gegensatz zu herkömmlichen Tauchbeschichtungsanlagen, die typischerweise auf ≤200 °C begrenzt sind, bietet der integrierte Ofen eine stabile thermische Umgebung bis zu 1000 °C und ermöglicht so die Herstellung von Hochtemperatur-Funktionsbeschichtungen und fortschrittlichen Materialsystemen.

Kompatibilität mit kontrollierter Atmosphäre

Das System kann in folgenden Umgebungen betrieben werden:

● Inerte Atmosphären wie Stickstoff oder Argon

● Oxidierende Umgebungen

Diese Flexibilität unterstützt ein breites Spektrum an Materialchemie und Reaktionsmechanismen.

Drei-Zonen-Programmierbares Bewegungsprofil

Eine dreistufige Zugsequenz ermöglicht die unabhängige Geschwindigkeitskonfiguration für:

● Niedrigtemperaturzone

● Hochtemperaturzone

● Kühlzone

Dies ermöglicht eine präzise Steuerung der Filmdicke, des Kristallisationsverhaltens und der Lösungsmittelverdunstungsdynamik.

Präzisionsbewegung und Vibrationsreduzierung

● SPS-basierte Steuerungsarchitektur

● Hochpräziser Schrittmotorantrieb

● Aufgehängte Zugdrahtübertragung zur Schwingungsdämpfung

Diese Eigenschaften gewährleisten eine stabile Abzugsgeschwindigkeit und eine reproduzierbare Beschichtungsmorphologie.

Benutzerorientierte Steuerungsschnittstelle

Ein 4,3-Zoll-Farb-Touchscreen bietet:

● Übersichtliche Parametervisualisierung

● Vereinfachter Arbeitsablauf für neue Bediener

● Zuverlässige Prozesssteuerung im Labormaßstab

Installationsanforderungen

Standardzubehör

Optionales Zubehör

Anwendungswert für die fortgeschrittene Batterie- und Materialforschung

Die TOB-PTL-HT-Plattform unterstützt wiederholbare Hochtemperatur-Dünnschichtprozesse und ermöglicht dadurch:

● Oberflächenbeschichtung von Elektrodenmaterialien der nächsten Generation

● Funktionelle Keramik- und Festkörperelektrolytfilme

● Studien zur kontrollierten Kristallisation

● Validierung neuartiger Beschichtungschemikalien im Pilotmaßstab

Dank programmierbarer Bewegungssteuerung, präziser Temperaturregelung und anpassbarer Hochtemperaturkonfiguration eignet es sich sowohl für Forschungs- und Entwicklungslabore als auch für frühe Pilotproduktionsumgebungen.

Produktpräsentation

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E-Mail: tob.amy@tobmachine.com

Telefonnummer: +86 181 2071 5609